为了避免光刻胶线条倒塌,线🜅⛛🛂宽越小的光刻工艺,如目前的32n28n22n刻,对光🃌🖖💩刻胶的要求🃔高的离谱,所需厚度越来越薄。
22n光刻技术制程,光刻胶的厚度要求达🙡🞦到了是100n右。🎖👃
太厚曝光不足,太薄又无法有效的形成光阻,不能阻挡等离子体对衬底的🅪刻蚀,非常的麻烦,必须🔛🁕🅩要严格按照标准来镀膜。
钟子🍎星与江浩然两人都穿着白大衣,带着护目镜和口罩,身边还跟着几位助手,独占一间实🏮验室。
“第20次实验,厚度依然无法达标……”
江浩然操作着一台电子显示🔢器🜅⛛🛂,屏幕上的光刻胶厚度以数学模型呈现,均匀分布,但是远远无法达到顶尖的水准。
稍微低端的刻蚀足够,但绝对🜅⛛🛂无缘顶级市场。
“得从其他方面入手!”
“比如加入一些别的材料?硅材料或碳材料!”钟子星双手扶着白色的实验🙷🎽台,陷入沉思。
以传统的方式进入光刻胶领域,想要超越深耕此道数十年的老牌巨头显然是不现实的🎰,得走一走别的路才行。
“试试看,开始第21次实验!”
科研就是在🎊🏖🚈失败中前进,没有人能形容找到路时那种心情,重要的是敢于尝试。
“好!”江浩然话不多,能动手绝不多说。
两人加上数个助理立刻开始投入新的实验,在🐗⛣🜏光刻胶中加入其他材料😮🄬,无论是光敏强或弱,都在试验范🐥🁼围之内。
把含硅光刻胶旋🀧涂在一层较厚的聚合物材料,设想中🁍🄤⛇,其对光是不敏感的。